08实验室正在研制的光刻胶，也是国家半导体后备技术的一部分。
在这个时期，光刻胶并不属于国外向中国禁售的产品。国际上生产光刻胶的厂商众多，国内的半导体企业能够轻而易举地买到各种光刻胶，而且价格也并不昂贵。
然而，国家却依然向枫林研究所下达了研制光刻胶的任务，其目的就是为了万一遭遇到国外的封锁，国内自己也能够提供出合用的光刻胶，确保少数关系国家安全的集成电路的生产不受影响。
所有的人都知道，国内自己研制的光刻胶生产成本会远远高于进口产品，质量则是远远不及，在市场上是绝对没有竞争力的。
但是，当事关国家生死存亡的时候，这些问题还有必要考虑吗？
枫林研究所研究的许多技术，都具有这样的特征。相比西方国家而言，这些技术平均要落后一至两代，即使送给别人，人家也不屑一顾。
可这并不意味着枫林研究所的保密制度就是多余的。保密的目的在于让对手不清楚我们的研究进度到了哪一步，无论对方高估或者低估了我们的水平，都会在战场博弈或者经济博弈中犯下一些或大或小的错误，而这些错误，可能就会成为我们的机会。
这是弱者的一种生存策略。
高凡对于国家的整体策略并不十分了解，但在他从云中明那里听到“光致抗蚀剂”这个词的时候，他就产生出了一个念头：
或许，自己能够做一些事情。
“徐师兄，我听毕主任说，你们正在研究的是g线光刻胶。对于i线以及krf光刻胶，你们有没有涉及？”高凡问道。
他说的毕主任，叫毕连生，是08实验室的室主任，一位不苟言笑的中年知识分子。
“i线光刻胶这方面，毕主任在实验室会议上提过几次，让大家有时间做一些积累，不过目前条件还不成熟。再至于说krf光刻胶，好像国外也刚刚开始研究吧？”
徐云是知道这些概念的。他原本就是物理系的学生，枫林研究所聘请他的老师前来参与这个项目，就是因为其中涉及到一些光学方面的问题。他在项目组里耳濡目染了这么久，对于这些问题自然是非常了解的。
此时的中国，在全球半导体市场上完全是小透明，根本不具备评论半导体产业发展的资格，因此也就没什么人会关注和提及摩尔定律。
上世纪60年代，光刻技术刚刚出现的时候，使用的是普通的可见光光源，那时候的光刻机其实就是拿一个大灯泡照射掩膜板，和照相馆里冲洗照片没啥区别。
光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中的感光剂在光线照射下会发生反应，使曝光区的光刻胶溶解，这就相当于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。
随后，再进行蚀刻、离子注入、封装等操作，一枚芯片就制作完成了。