听到高凡的问题，徐云也只能把心里那些杂念抛开，认真地答道：“我们现在研究的重点，就是g线光刻胶，这也是目前应用最广泛的。
时下，g线光源还是集成电路制造中使用的主流光源。i线光源光刻机已经问世，但还没有得到大规模推广。至于krf，实验室概念已经提出来了，真正投入使用，还得是十年后的事情。
“你说i线光刻胶的条件不成熟，是指什么？”高凡问道。
光刻技术，按照使用的光源不同，可以分为许多类，或者称为不同代际也可以。
光刻胶中感光剂的选择，与光源是密切相关的，这涉及到化合物在不同波长光线作用下的变化，机理十分复杂。
90年代之后，出现了使用准分子激光器的248纳米、193纳米和157纳米光源，分别称为krf、arf和f2光源，属于深紫外光源。
再至于被誉为“皇冠上的明珠”的euv光刻机，使用的是13.3纳米的极紫外光源，它的出现时间已经要算到2010年之后了。
“我想跟你说的，就是这个。”高凡说，“对了，徐师兄，摩尔定律你听说过没有？”
光刻的原理，与冲洗照片是一样的。首先，要把电路图制作成底片，称为掩膜。光源通过掩膜照射在涂了光刻胶的芯片基材上。
80年代，光源进化为采用高压放电汞灯产生的436纳米和365纳米光源，前者称为g线光源，后者称为i线光源，都属于近紫外光源。
徐云道：“不是我说的，而是毕主任说的。现在国内根本就没有使用i线光源的光刻机，国外也不多，研究i线光刻胶，是不是有些操之过急了？”
摩尔定律是1965年提出的，不过直到70年代中期才受到人们的重视。随着集成电路技术的迅猛发展，摩尔定律一再得到印证，一时间在西方科技界和产业界倍受推崇。
“当然听说过。”徐云不忿地说，“不就是集成电路上的晶体管数量，每两年就增加一倍吗？我们好几个老师上课的时候都提过。”
“不愧是科大，思维很前卫。”高凡翘个大拇指，赞了一句，却换来了徐云一个白眼。
徐云说他有好几位老师上课时候都提过摩尔定律，高凡自然是要表示钦佩的。只是以他的身份，摆出这样一副嘴脸来夸奖中科大，徐云怎么能不对他表示一番鄙夷。
“既然你知道摩尔定律，那么你想想看，芯片制造技术将会以什么样的速度发展？g线光刻机肯定很快就会落伍，下一代i线光刻机会迅速普及。不出十年，市场主流就会是krf光刻机。”高凡侃侃而谈。
徐云在心里默想了一下，点点头道：“你说得有理，不过，这也是国际市场的潮流吧？咱们国内现在连g线光刻机都没能掌握，你说的krf，怎么也得是20年以后的事情了。”
“我们为什么就不能瞄准国际市场呢？”高凡看着徐云，“造光刻机，需要高精密机床，咱们一时造不出来。可是光刻胶的技术没多高的门槛，咱们为什么不能提前一步占领这个市场呢？”